Loading presentation...

Present Remotely

Send the link below via email or IM

Copy

Present to your audience

Start remote presentation

  • Invited audience members will follow you as you navigate and present
  • People invited to a presentation do not need a Prezi account
  • This link expires 10 minutes after you close the presentation
  • A maximum of 30 users can follow your presentation
  • Learn more about this feature in our knowledge base article

Do you really want to delete this prezi?

Neither you, nor the coeditors you shared it with will be able to recover it again.

DeleteCancel

Make your likes visible on Facebook?

Connect your Facebook account to Prezi and let your likes appear on your timeline.
You can change this under Settings & Account at any time.

No, thanks

Crescimento de Filmes Finos

No description
by

Arthur Schelb Filippini

on 27 June 2014

Comments (0)

Please log in to add your comment.

Report abuse

Transcript of Crescimento de Filmes Finos

Bibliografia
Volume 21, Issue 12 deAdvanced Functional Materials .

Fonte: Australian National University


http://zh.clicrbs.com.br/rs/noticias/campo-e-lavoura/noticia/2013/09/seminarios-reunem-pesquisadores-da-embrapa-em-porto-alegre-4266715.html
Exemplos
Obrigado
Tecnicas principais
Reatores CVD de pressão atmosférica - APCVD
Modos de Crescimento
Crescimentos
O que sao filmes finos?
Pelicula- nanometros a micrometros
FIlmes Finos
Sputtering
Diferenças nas forças entre os materiais
Causas
Utilizações
Crescimento de Filmes Finos
Tecnica usada na deposição
Reatores CVD de baixa pressão - LPCVD
Reatores CVD com plasma remoto - RPECVD
Evaporação
Aquecimento resistivo
Evaporação por feixe de elétrons
Evaporação por aquecimento indutivo
Halliday, D.;Resnick, R.; Walker.
Fundamentos de Fisica. Ed.: LTC (7ªed).
Rio de Janeiro, 2007; Vol.4, 86-91
Teoria
Peter J. Tatsch, Deposição de Filmes Finos, Capítulo 11
Metodos
Imagens
Aplicações - Óxidos de baixa temperatura, dopados ou não;
Vantagens - Simples, alta taxa de deposição e baixa temperatura;
Desvantagens - Cobertura de degraus ruins e contaminação por partículas.
Aplicações - Óxidos de alta temperatura, dopados ou não, Nitreto de Silício, Polisilício, W e WSi;
Vantagens - Excelente uniformidade e pureza, cobertura de degrau conforme, processamento de
lâminas de grande diâmetro;
Desvantagens - Alta temperatura e baixa taxa de deposição.
Aplicações - Deposição de dielétricos sobre metais em baixa temperatura
Vantagens - Baixa temperatura, alta taxa de deposição, boa cobertura de degrau;
Desvantagens - Alto custo do equipamento.
Metais refratários não podem ser evaporados devido ao seu alto ponto de fusão
Evaporação do material do filamento pode contaminar o filme;

Raios-X
Sem radiação

Contaminação
Alta pureza
Não se consegue controlar com precisão a espessura do filme;
Não se consegue controlar a composição de ligas.
Deposição uniforme sobre grandes áreas pela utilização de alvos de diâmetro grande;
Precisao da espessura pelo controle dos parâmetros de processo;
Controle das propriedades dos filmes como cobertura de degrau e estrutura de grão;
Limpeza da superfície da amostra
Deposição de multi-camadas, alvos múltiplos;
Não produz raios-X.

Alto custo do equipamento;
Baixa taxa de deposicao
Degradaçao do material
Incorporação de impurezas ao filme depositado pela alta pressao
Revista digital, Cap 3, PUC-Rio - Certificação Digital
N° 031322423/CA
Peter J. Tatsch, Deposição de Filmes Finos, Capítulo 11
Full transcript