Loading presentation...

Present Remotely

Send the link below via email or IM

Copy

Present to your audience

Start remote presentation

  • Invited audience members will follow you as you navigate and present
  • People invited to a presentation do not need a Prezi account
  • This link expires 10 minutes after you close the presentation
  • A maximum of 30 users can follow your presentation
  • Learn more about this feature in our knowledge base article

Do you really want to delete this prezi?

Neither you, nor the coeditors you shared it with will be able to recover it again.

DeleteCancel

Make your likes visible on Facebook?

Connect your Facebook account to Prezi and let your likes appear on your timeline.
You can change this under Settings & Account at any time.

No, thanks

E-BEAM LİTHOGRAPHY

No description
by

Meltem DemiRci

on 14 April 2014

Comments (0)

Please log in to add your comment.

Report abuse

Transcript of E-BEAM LİTHOGRAPHY

ERCİYES ÜNİVERSİTESİ
Litografi nedir ?
Kelime anlamı ışıkla yazmadır.

Parlayan bir ışığın maskeden geçirilip
tabaka üzerinde desenin oluşturulmasıdır.

Litografi işlemi maske kullanmadan da
gerçekleştirilebilir.
Electron Beam Lithography nedir ?
Elektron Demeti Litografisi,
-yönlendirilmiş elektronlar kullanarak,
-maskesiz,
-nano ölçeklerde, yapılan bir yazma tekniğidir.
Tarihte EBL
Bu yöntemden ilk bahseden
RICHARD FEYNMAN (1918-1988)

1965’ de Elektrodinamikle ilgili çalışmaları dolayısıyla
Nobel Fizik Ödülü almıştır
E-BEAM LİTHOGRAPHY
ELECTRON BEAM LİTHOGRAPHY SİSTEMİ
Elektron Demeti Litografisi,
-Nano teknoloji araştırmalarında kullanılan
ileri nano litografi yeteneklerine
sahip bir yöntemdir.
EBL SİSTEMİ (TEM)
-Optik ve saptırıcı
lensler.
-Desen işleyici
-Lazer interferometre
-Kontrollü örnek
taşıyıcı.

Elektron kaynağı
EBL SİSTEMİ (TEM)
Lazer İnterferometre

Işığın girişiminden faydalanarak, çok hassas ölçümler yapan bir ölçü cihazıdır.
-Maddenin kırılma indisi ölçümünde
-Saydam yüzeylerin düzgünlük kontrolünde





Desen İşleyici

-Çizim yazılımlarıyla kullanıcının belirlediği desenleri, elektron demetini pozlandırmak için elektronik sinyallere çevirir.
EBL SİSTEMİ (SEM)
SEM’ de litografi işlemini geçekleştirebilmek için ELEKTRON BLANKER eklenmelidir.


AVANTAJLARI

*Nano boyutlarda desen oluşturma
*Maskeye ihtiyaç yoktur
*Bilgisayar kontrollü olması
DEZ AVANTAJLARI

*Eksi yüklü elektron demetlerinde şişme oluyor
*Işık kullanılan lithography sistemlerine göre daha pahalı ve yavaş
*Dış etkilerin en az olması
gerekir.
EBL SİSTEMİN ÜRETİM AŞAMALARI
1) Wafer Temizleme:
*Aseton
*Gzopropanol
2) Kurulama:
Hava veya azot gazı üflenerek kurutma yapılır.
EBL SİSTEMİN ÜRETİM AŞAMALARI
3) Fotorezist Kaplama
*PMMA madde
Materyalleri iyon implantasyonuna maruz kalmamaları için korur.
4) Pişirme:
*Yüzeye kaplanan polimer
80-100 derecede 30dk pişirilir.
EBL SİSTEMİN ÜRETİM AŞAMALARI
5) Pozlama:
Kaynaktan elektron demeti
formunda yayılan elektronlar
-mercekler
-elektron blanker
-saptırma bobinleri
ile odaklanır ve şekillendirilir,
wafer üzerine düşürülür.
6) Development:
EBL SİSTEMİN ÜRETİM AŞAMALARI
7) Metal Biriktirme
EBL SİSTEMİN ÜRETİM AŞAMALARI
EBL SİSTEMİN ÜRETİM AŞAMALARI
8) Kaldırma
EBL SİSTEMİN UYGULAMA ALANLARI
Nano boyutlarda elektronik devre yapımında
EBL SİSTEMİN UYGULAMA ALANLARI
Photo maske yapımında
MELTEM DEMİRCİ 1031210093

SEMA KARABEL 1031210087

SATUK BUĞRA HARMANCI 1031210067

BERKAY DELAY 1031210081
TEŞEKKÜR EDERİZ ...
Full transcript